1. 水蜜桃少妇,91蜜桃视频在线播放,欧美蜜桃视频,亚洲蜜桃成人无码久久精品

                
    當前位置: 首頁 > 技術中心

    技術中心

    真空銀納米顆粒技術分析
    發布時間:2014-10-09 瀏覽:  次

      製備銀納米粒子的常用方法有物理方法和化學方法。化學方法包括溶膠凝膠法、電鍍法、氧化一還原法、靜電噴塗法。利用化學方法所得到的銀顆粒最小可達幾納米。

      實驗簡單、方便,但所得銀顆粒不易轉移和組裝,且雜質含量較高,容易形成團聚大顆粒。

      物理製備方法主要有真空蒸鍍、濺射底和離子鍍。

      濺射鍍又包括直流濺射鍍、磁控濺射鍍、射頻濺射鍍、反應濺射鍍和新發展的微波控製的共濺射鍍等。真空蒸發方法是發展最早、應用最廣的銀納米粒子的製備方法,其原理簡單,操作方便。

      通過控製蒸發參數可製備幾納米到幾十納米的顆粒,但所得納米粒子定向生長性差,納米粒子分散度大,顆粒形狀和粒度分布不均勻。

      濺射方法是20世紀40年代開始發展的製備方法,在現代工業和科學研究中得到廣泛應用。濺射方法與蒸發方法一樣,操作簡單。

      特別是1970年出現的磁控濺射技術,具有高速、低溫兩大特點,通過對濺射參數的控製,可以製備出幾納米到幾十納米的顆粒,所得納米顆粒尺寸小,定向生長性妤,顆粒形狀較整齊,粒度小,較均勻。離子鍍也是一種新型的製備方法,所製備的納米顆粒尺寸小,粒子形狀整齊,粒度也較均勻,但其設備較昂貴。

      最新的納米粒子的製備設備是流動液麵真空蒸鍍裝置,它可製備出0.1nm的團簇粒子,顆粒均勻度很高,是一種非常好的銀納米製備設備,但設備昂貴,不適合運用於工業生產中。

      本文由水蜜桃少妇真空(http://www.china-liguang.com)收集整理,我公司專業銷售和維修進口91蜜桃视频在线播放機欧美蜜桃视频維修,歡迎來電谘詢!

    推薦閱讀

    磁控濺射靶材的承載功率分析?

    真空熱處理技術原理分析






      上一篇:磁控濺射靶材的承載功率分析?

      下一篇:91蜜桃视频在线播放機鍍鉻技術

      
    網站地圖